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电子四氟化碳

[ 时间:2018-07-25 17:40:00 ]
电子四氟化碳
详情介绍
  电子四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之,主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻。在低温制冷、电子器件表面清洗和气相缘等方面被广泛应用。我院具备年产200吨CF4的生产能力,生产工艺及设备均处于内 先地位,且以生产5N规格的产品为主。稳定销往韩、台湾等地区。
  产品性:
  四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之,主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻。
  黎明院是内早研究开发六氟化硫生产工艺的单位,致力于含氟电子气的研究,取得数十项技术研究及革新成果,曾获科学大会奖,并主编工业、电子六氟化硫家标准。
  黎明院在制氟及氟化物生产行业的综合技术实力达到了内 先水平,产品质量达到际先进水平。在电解制氟、合成、提纯、“三废”处理等工艺技术域具有四十多年的科研和生产经验,拥有多项核心技术,累计申报家利17项。工业六氟化硫产品已经连续多年获得“河南省名 产品”称号。
  近年来,黎明院电子六氟化硫、三氟化氮、四氟化碳、六氟化钨等含氟种气体的研发也取得了丰硕成果,其中自主研发的处于际先进水平的新型电解技术可实现直接步反应生产三氟化氮,其产品指标达到际先进水平。超高纯六氟化硫、四氟化碳的研发列入家重大项课题“02项”, 重点开发满足半导体集成电路域使用的更高纯度含氟电子气体。
联系方式
  • 黎明化工研究设计院有限责任公司营销中心
  • 联系人:王经理
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